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Aggiornamenti Plasma Module
Per gli utenti del Plasma Module, la versione 6.1 di COMSOL Multiphysics® offre la possibilità di modellare reattori di plasma accoppiati con una polarizzazione RF periodica, un nuovo add-in Plasma Chemistry, che crea una chimica del plasma completa da un file di testo per i modelli, e quattro nuovi modelli tutorial. Per saperne di più su questi aggiornamenti, leggete qui di seguito.
Plasma ad accoppiamento induttivo con interfaccia multifisica a radiofrequenza
La nuova interfaccia multifisica Inductively Coupled Plasma with RF Bias combina le interfacce Plasma, Time Periodic e Magnetic Fields per modellare reattori di plasma ad accoppiamento induttivo (ICP) con un'eccitazione periodica capacitiva a radiofrequenza. Il campo magnetico viene risolto nel dominio della frequenza e le equazioni di trasporto del plasma vengono risolte per uno stato stazionario periodico. Questa interfaccia è dedicata alla modellazione di reattori di plasma con meccanismi di accoppiamento di potenza induttivi e capacitivi e può essere visualizzata nel nuovo modello Model of an Argon and Chlorine Inductively Coupled Plasma Reactor with RF Bias.
Add-in Plasma Chemistry
Il componente aggiuntivo Plasma Chemistry crea automaticamente una chimica del plasma completa da un file di testo per i modelli che utilizzano le interfacce Plasma e Plasma, Time Periodic. Con il componente aggiuntivo è possibile specificare gli aspetti di una chimica del plasma nel file, come le proprietà delle specie, i parametri termodinamici, le reazioni di impatto degli elettroni, le sezioni d'urto e le costanti di velocità, le reazioni delle specie pesanti e le reazioni di superficie. I seguenti nuovi modelli utilizzano questa funzionalità:
- Model of an Argon and Chlorine Inductively Coupled Plasma Reactor with RF Bias
- Model of an Argon and Oxygen Inductively Coupled Plasma Reactor
- Model of an Argon and Oxygen Capacitively Coupled Plasma Reactor
Nuovi modelli tutorial
La versione 6.1 di COMSOL Multiphysics® introduce quattro nuovi modelli tutorial nel Plasma Module.
Model of an Argon and Chlorine Inductively Coupled Plasma Reactor with RF Bias
Titolo in Application Library:
icp_ccp_argon_chlorine
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Model of an Argon and Oxygen Inductively Coupled Plasma Reactor
Titolo in Application Library:
icp_argon_oxygen
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Model of an Argon and Oxygen Capacitively Coupled Plasma Reactor
Titolo in Application Library:
ccp_argon_oxygen
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Dry Air Boltzmann Analysis
Titolo in Application Library:
boltzmann_dry_air
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